集成电路生产用超纯水设备顾名思义主要应用于集成电路生产用水,该设备引进国外进口元件,结合国内外制水经验,选用先进的反渗透技术和edi技术相结合,有效去除水中的各种杂质.集成电路生产用超纯水设备具有出水水质好,操作简单,制水效果明显等特点.
一、集成电路生产用超纯水设备特点
1、整体化程度高、易于扩展、增加膜数量即可增加处理量.
2、自动化程度高,遇故障立即自停,具有自动保护功能.
3、膜组件为复合膜卷制而成,表现出更高的溶质分离率和透过速率.
4、能耗低、水利用率高、运行成本低.
5、结构合理,占地面积少.
6、先进的膜保护系统,在设备关机,淡化水可自动将膜面污染物冲洗干净,延长膜寿命.
7、系统无易损部件,无须大量维修,运行长期有效.
8、设备设计有膜清洗系统用阻垢系统.
二、集成电路生产用超纯水设备的性能优势
1、无需酸碱再生无需昂贵的纯水柱(超纯化柱/去离子纯水柱/超纯水柱)更换,纯化柱通常为一次性使用.edi则消除了这些学药品酸碱有害物质的处理和繁重的工作,保护了环境.
2、连续、简单的操作:在混床中由于每次再生和水质量的变化,使操作过程变得复杂,而edi的产水过程是稳定的连续的,产水水质是恒定的,没有复杂的操作程序,操作大大简便化.
3、降低了安装的要求:edi系统与相当处理水量的混床相比,有较不的体积,它采用积木式结构,可依据场地的高度和灵活地构造.模块化的设计,使edi在生产工作时能方便维护.
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