周口供应吨电镀去离子高纯水设备 超纯水系统

周口供应吨电镀去离子高纯水设备 超纯水系统

周口供应吨电镀去离子高纯水设备 超纯水系统

详细说明:

EDI应用领域

1、电厂化学水处理

2、电子,半导体行业超纯水

3、精密机械行业高纯水

4、制药工业工艺用水

5、实验室研究用高纯水

6、精细化工,精尖学科用水

7、-行业所需的高纯水制备

EDI 膜块及您选配的配套电源是属于带电工作产品,因此,在进行EDI 产品使用时,应有以下措施予以保
证:
1、定期检查各个接线端子的接线是否牢靠稳固.
2、处理电器故障或更换电器元件时,必须由专业的持照电气人员进行.
3、EDI 设备工作时,禁止拆卸电源线.
4、不可将任何杂物、工具等物品放置在 EDI 膜块上面.
5、若发生 EDI 膜块渗水或泄漏情况时,应及时停止设备运行,并通知专业维护人员进行检查处理.

为了保证EDI 膜块在使用中能发挥的效果,必要
的进水条件,是需要满足的.
水源 反渗透RO 产水;电导率≤20μS/cm
硬度 ≤(以CaCO3 计)
PH 值 ‐\‐
温度 5℃‐\‐38℃
总CO2 小于3ppm,当CO2 含量大于3ppm 时,可加
NaOH 调节PH 值
进水压力 —
有机物 TOC 小于,建议检测不出
氧化剂 活性氯(Cl2)小于;
臭氧(O3)小于
-氧化剂小于
重金属离子 小于 Fe、Mn、变价性金属离子
硅 小于(以SiO2 计)