无锡吉致电子25年研发生产——氧化层抛光液 /Oxide slurry/CMP抛光液/氧化物CMP研磨液/氧化物化学机械抛光液/半导体CMP抛光液/氧化层lapping研磨抛光液/氧化层slurry/氧化层抛光液抛光浆料/氧化层集成电路抛光液/氧化层CMP化学机械抛光液slurry/氧化层抛光液slurry 

磨料类型:半导体cmp抛光液slurry

磨料粒径:纳米级SiO2

产品特点:纳米级SiO₂磨料,粒径均一稳定,去除速率稳定,金属离子含量低,通过CMP工艺可有效去除表面氧化层,达到理想平坦度.

吉致电子Oxide Slurry与国内外同类产品相比,具有易清洗、表面粗糙度低等特点.

吉致电子氧化层抛光液/OxideSlurry抛光液储存方法:

通风,阴凉,干燥的库房,本品需在5-35℃储存,防止阳光直射,零度以下因产生不可再分散结块而失效.

吉致电子CMP抛光液/Slurry抛光液价格:

吉致电子的CMP金属抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备,特殊化学配方制备而成.吉致电子抛光液品质可以媲美进口同类产品.

本土化生产使得吉致电子CMP抛光液产品交货周期快,品质好,抛光液价格亲民.

吉致电子CMP抛光耗材适用范围

吉致电子科技有限公司拥有成熟的加工工艺,为不锈钢、铜、铝、陶瓷、导光板、五金产品、蓝宝石、光学玻璃等各类抛光加工服务.为您提供可靠抛光解决方案!

无锡吉致电子科技有限公司

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