PACe: pre-wrap !important; position: unset !important;">无锡吉致电子25年研发生产——碳化硅晶圆抛光液/硅衬底SIC抛光液/半导体抛光液/CMP化学机械抛光液/硅衬底抛光液/slurry抛光液

产品简介:为电力电子器件及LED用碳化硅晶片的CMP化学机械平坦化配制的抛光液.CMP抛光液大大提高了碳化硅晶圆表面去除率和平坦化性能,提供了非常好的表面光洁度

吉致电子碳化硅晶圆Slurry抛光液使用方法:

1.可根据抛光操作条件用去离子水进行5-20倍稀释.

2.稀释后,粗抛时调节PH11左右,精抛时调节左右.pH调节可以用10%的盐酸、醋酸、柠檬酸、KOH或氨水在充分搅拌下慢慢加入.

3.循环抛光可以用原液.

吉致电子碳化硅晶圆Slurry抛光液储存方法:

1.贮存时应避免曝晒,贮存温度为5-35℃

2.低于0℃以上储存,防止结冰,在无度以下因产生不可再分散结块而失效.

3.避免敞口长期与空气接触.

吉致电子碳化硅晶圆Slurry抛光液价格:

吉致电子的碳化硅晶圆抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备,特殊化学配方制备而成.吉致电子抛光液品质可以媲美进口同类产品.

本土化生产使得吉致电子CMP抛光液产品交货周期快,品质好,抛光液价格亲民.

无锡吉致电子科技有限公司

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