MicroLine-300是一款桌上型半自动CD测量系统.

主要技术参数:

◆    测量范围(XYZ):标准:200×200×25mm;可选:300x300x25

◆    视场内测量精度:10nm(100X 镜头);Z轴ju jiao范围:25 mm

◆    视场内测量范围:~400um;

◆    视场内测量重复性(100x 物镜):  晶圆上<(1δ); 

                                                   掩模板上(1δ);   

◆    承重:2kg

◆    标配镜头10x,可选镜头:5X, 20X, 50X, 100X

MicroLineTM 300是一款高性能测量晶圆、光罩、MEMS和-微加工设备等关键尺寸的自动化测量系统.该系统配备了高质量光学显微镜和精密移动平台,可对200mm的晶圆上µm到400µm的特征尺寸进行全自动的精密视场测量.

n  200 x200mm精密X-Y平台

n  基于视觉的自动ju jiao获得某佳影像质量

n  自动照明可编程光强

n  用于测量透明层、不规则边缘的线、厚膜等的强劲性能

n  完全可编程的序列,包括自动ju jiao和关键尺寸测量

n  电动的6目物镜转换器,软件控制

n  可选的透射照明

技术规格:

- 测量行程: 200 x 200 x25mm(XYZ)

- 平台运行: 交叉滚轴手动同轴定位和快速释放

- 视场内的测量精度: µm (用100x物镜)

- 特征尺寸: 视场内µm - 400µm

- FOV测量重复性: <µm on wafers (用100x物镜)

<µm on photomasks (用100x物镜)

- 照明: 石英卤素灯, 反射光

      自动照明

- 低噪音CCD VGA格式摄像头

- 图像处理60帧每秒

MicroLine 300的典型应用包括:

l  晶圆

l  光罩

l  MEMS

l  微型组件

测量类型:

n  关键尺寸:

线宽  Linewidth

节距  Pitch

间隙  SPACing

n  Overlay

            Multi-layer registration

Box in box

Circle

Edge roughness

Butting error

MicroLine-300是一款桌上型半自动CD测量系统.

主要技术参数:

◆    测量范围(XYZ):标准:200×200×25mm;可选:300x300x25

◆    视场内测量精度:10nm(100X 镜头);Z轴ju jiao范围:25 mm

◆    视场内测量范围:~400um;

◆    视场内测量重复性(100x 物镜):  晶圆上<(1δ); 

                                                   掩模板上(1δ);   

◆    承重:2kg

◆    标配镜头10x,可选镜头:5X, 20X, 50X, 100X

MicroLineTM 300是一款高性能测量晶圆、光罩、MEMS和-微加工设备等关键尺寸的自动化测量系统.该系统配备了高质量光学显微镜和精密移动平台,可对200mm的晶圆上µm到400µm的特征尺寸进行全自动的精密视场测量.

n  200 x200mm精密X-Y平台

n  基于视觉的自动ju jiao获得某佳影像质量

n  自动照明可编程光强

n  用于测量透明层、不规则边缘的线、厚膜等的强劲性能

n  完全可编程的序列,包括自动ju jiao和关键尺寸测量

n  电动的6目物镜转换器,软件控制

n  可选的透射照明

技术规格:

- 测量行程: 200 x 200 x25mm(XYZ)

- 平台运行: 交叉滚轴手动同轴定位和快速释放

- 视场内的测量精度: µm (用100x物镜)

- 特征尺寸: 视场内µm - 400µm

- FOV测量重复性: <µm on wafers (用100x物镜)

<µm on photomasks (用100x物镜)

- 照明: 石英卤素灯, 反射光

      自动照明

- 低噪音CCD VGA格式摄像头

- 图像处理60帧每秒

MicroLine 300的典型应用包括:

l  晶圆

l  光罩

l  MEMS

l  微型组件

测量类型:

n  关键尺寸:

线宽  Linewidth

节距  Pitch

间隙  Spacing

n  Overlay

            Multi-layer registration

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