UV光解主要工艺段技术原理:
众所周知,紫外线是由电磁波组成,其本身所带有的能量与波长直接有关,波长越短,能量越大。通过采用D波段内的真空紫外线(波长范围170~184.9nm),照射有机气体或恶臭气体分子,当这些气体分子吸收了这类紫外线光后,因紫外线光本身所带有的能量,使有机气体或恶臭气体分子内部发生裂解,化学键断裂,形成游离状态的原子或基团(C*、H*、O*等)。同时,混合气体中的氧气被紫外线光裂解形成游离的氧原子并结合生成臭氧【UV O2→O- O*(活性氧) O* O2→O3(臭氧)】;混合气体中的水蒸气被紫外线光裂解产生羟基【UV H2O→H OH-(羟基) 】,而这些生成的臭氧和羟基具有极强的氧化性,可将废气分子裂解产生的原子和基团(甚至是有机气体或恶臭气体分子)氧化成H2O和CO2等无污染的低分子化合物。另外,利用高能紫外线光束可裂解恶臭气体中细菌的分子键,破坏细菌的核酸(DNA),再通过臭氧进行氧化反应,彻底达到脱臭及杀菌的目的。
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